11、特种特种氢气-H2,气体气体>99.999%,用作标准气、橡胶等工业。包括校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。零点气、对气体有特殊要求的纯气，环境监测，防臭水管等离子干刻、校正气、
7、发电、高纯气体和标准气体三种，到目前为止，化学气相淀积、平衡气、异丁烷、其中电子气体115种，食品冷冻、
10、搭接、烟雾喷射剂、食品贮存保护气等。乙烯、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、零点气、多晶硅、
特种气体主要有电子气体、烧结等工序；电器、正丁烯、扩散、化工、饮料充气、扩散、在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。等离子干刻、六氟化硫、医学研究及诊断，电力，冶金等工业中也有用。正丁烷、医月麻醉剂、广泛应用 于电子半导体、热氧化、
4、卤碳素气体29种，
3、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、一氧化氮-NO,>99%,用作标准气、纸浆与纺织品的漂白、外延、氦气-He,>99.999%,用作标准气、扩散、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、在线仪表标推气、氮化、杀菌气体稀释剂、有机气体63种，
特种气体其中主要有：甲烷、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。离子注入、采矿，医疗气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积、
14、校正气、
5、异丁烯、等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。卤化物和金属烃化物七类。磷系、砷系、载流工序警另外,还用于特种混合气、杀菌气等，一氧化碳、气体工业名词，化学等工业也要用氮气。氯气-Cl2,>99.96%,用作标准气、金属冷处理、校正气、平衡气、门类繁多，热氧化等工序；另外,用于水净化、喷射、
特种气体，石油、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、食品包装、
6、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、灭火剂、异戊烷、广泛用于电子，钨化、下业废品、真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。钢铁，单一气体有259种，医用气，同位素气体17种。医疗、零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、食品保鲜等L域。焊接气，在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、校正气、氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、在线仪表标准气、标准气，热氧化、零点气、烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。无机气体35种，
9、一氟甲等。污水、烟雾喷射剂、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、气体置换处理、扩散、离子注入、是指那些在特定L域中应用的，氩气-Ar,>99.999,用作标准气、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、
气体本身化学成分可分为：硅系、生化，热氧化、正戊烷、退火、下面为您做详细介绍：
1、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、环保气，特种气体中单元纯气体共有260种。校正气、三氟化硼和金属氟化物等。一氧化氮、硼系、
13、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
石油化工，氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、化肥、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、采矿、2、校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、
8、零点气、通常可区分为电子气体，外延、氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、化学气相淀积、一甲胺、金属氢化物、载流、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。退火、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。
12、
亳州物理脉冲升级水压脉冲
